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解决方案
什么是TOF-SIMS

原则

       飞行时间二次离子质谱(TOF-SIMS:飞行时间二元体)是一种利用飞行时间差(飞行时间与重量平方根成正比)对固体样品照射离子束(初级离子)并从表面释放的离子(二次离子)进行质量分离的方法。TOF-SIMS 以非常高的检测灵敏度提供有关样品表面 1 nm 或更小深度的元素或分子物种的信息。 照射到表面一次离子的每单位面积的个数约为 1012 ions/cm2 个以下(硅表面原子数为 1015 atoms/cm2 少量,几乎无损分析是可能的。

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激发源(初级离子枪)

       在 TOF-SIMS 中,液态金属离子枪(LMIG:液体离子枪)具有亚微米的探针直径,可产生数百皮秒的短脉冲,被广泛用作初级离子源。 在 LMIG 中,有三种类型的离子源可供选择:Ga、Au 和 Bi。 虽然所有 Ga 离子束都是一个量体,但 Au 或 Bi 离子束含有大量的多聚体离子。 使用多聚体离子可以有效地分析高质量分子。Ga 离子适用于低质量区域(主要是元素)的分析,Au 和 Bi 离子适用于高质量区域(主要是分子)的分析。


充电补偿机制(低能量电子)

       TOF-SIMS 的测量范围可以是导电材料、绝缘材料,也可以是粉末或纤维等样品形式,只要它们可以引入真空。 测量绝缘体时,可同时照射初级离子和脉冲低能电子,以防止样品因初级离子照射而带电。


二次离子检测系统(TRIFT™型分析仪)

       从固体表面释放的二次离子具有从几 eV 到几十 eV 的能量分布和广泛的发射角,即使质量相同,到达探测器的时间也会不同。 在 TRIFT 型分析仪中,高能离子在轨道外运行,以补偿能量差异引起的飞行时差。 此外,由于二次离子可以以广角捕获,因此即使对于约 100 μm 的不规则性,也可以获得阴影较少的图像。

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溅射离子枪

       由于 TOF-SIMS 的信息深度小于 1 nm,因此,如果表面污染层较厚,或者要评估更深的区域,请使用离子溅射进行表面蚀刻。 通过交替溅射和测量获得的光谱信息,可以获得元素成分或分子结构的深度方向轮廓。 表面蚀刻与初级离子枪分开使用溅射离子枪。一般来说,在金属和半导体等无机材料的深度方向分析中,氧气(O2 和镉(Cs)离子,对于有机材料,60 和氩气簇离子 (Ar-GCIB),根据材料和用途使用溅射离子枪。

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